高周波プラズマを使った長尺製品向けＤＬＣ成膜装置の話

2022年10月24日

今回は自社の長尺製品が処理可能であるＤＬＣ成膜装置の説明です。

自社製作炉であり、処理エリアが「φ１５０＊１０００ｍｍ」、加工膜種は「DLC-EX」と「CFC-H」です。

特徴は真空炉内に円状のループアンテナを縦に複数設け、
炭化水素系ガス雰囲気の中で高周波電流を流す事でプラズマを発生させます。
これにより処理エリアに搭載した1ｍ程度の長尺品にも安定した膜厚の成膜ができます。
処理温度は約２００℃です。

方式は、ＰＣＶＤ（Ｐｌａｓｍａ　Ｅｎｈａｎｓｅｄ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｖａｐｅｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ＝原料ガスをプラズマでイオン化し、対象物にＤＬＣ膜を成膜するプロセス）に分類されます。

また、上記図の様に処理物を吊り下げて保持することで、反りや曲がりに対しても配慮しています。
長尺物へのＤＬＣ成膜は対応できるメーカーが少ないこともあり、
他社が処理できない特殊品の処理で好評いただいております。

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