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2016年

3月

22日

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2015年度 第60期トライボロジー学会 技術受賞

受賞技術:T字状磁気フィルター型真空アーク蒸着装置および高品位DLC膜の開発
受賞者:滝川 浩史 豊橋技術科学大学
    瀧  真  (株)オンワード技研
    長谷川 祐史(株)オンワード技研
    加納 眞   神奈川県産業技術センター
    吉田 健太郎 神奈川県産業技術センター

2015年

12月

25日

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SmArc TiAlNを生産中止

平成28年2月17日をもちまして、SmArc TiAlNを生産中止いたします。

尚、受注生産につきましては御相談願います。

2014年

11月

13日

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HCD:ハード一新しました。


 

【HCD:ハード一新しました。】

膜質の良さが認められながらも、操作の難しさや合金膜成膜ができないことから、国内設備減少が進むHCD方式。

当社は、ハードウェアを一新して安定稼動しております。





2012年

12月

27日

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ISO9001(品質マネジメントシステム)取得

ISO9001(品質マネジメントシステム)取得しました。

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